新華社北京12月26日電（記者班娟娟　實習記者汪子旭）經(jīng)濟參考報12月26日刊發(fā)題為《我國將構建知識產(chǎn)權高質量發(fā)展框架體系》的報道。文章稱，12月25日，在由中國國家知識產(chǎn)權局和世界知識產(chǎn)權組織共同主辦的第二十屆中國專利獎頒獎大會上，國家知識產(chǎn)權局局長申長雨表示，2019年，將進一步推動知識產(chǎn)權高質量發(fā)展，加快形成相關指標體系、政策體系、統(tǒng)計體系和考核體系。進一步完善相關法律制度，做好專利法修改，引入侵權懲罰性賠償制度。

申長雨表示，未來將督促地方完善專利政策，突出質量導向，淡化數(shù)量情結，加快形成高質量發(fā)展的指標體系、政策體系、統(tǒng)計體系和考核體系，為高質量發(fā)展提供良好制度保障。大力培育高價值核心專利，積極鼓勵企業(yè)、高校和科研院所加強關鍵前沿技術知識產(chǎn)權創(chuàng)造，形成更多高價值專利組合。同時，堅決遏制低質量申請，嚴厲打擊非正常申請，切實營造高質量發(fā)展的良好環(huán)境。

申長雨還透露，2019年將進一步完善相關法律制度，積極配合做好專利法修改，引入侵權懲罰性賠償制度，大幅提高侵權違法成本，從根本上解決專利領域長期存在的舉證難、周期長、成本高、賠償?shù)偷葐栴}。同步推進修訂《專利法實施細則》和《專利審查指南》。（完）